试题详情
- 单项选择题一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A、不做处理,让患者把义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
- E
关注下方微信公众号,搜题找答案
热门试题
- 面部肌肉建的动力平衡中,与向后的动力有关
- 关于全口义齿颌间距离过小时的后牙排列表述
- 每解除牙弓1.0mm拥挤,约需要间隙
- 目前应用最广泛的种植材料是
- 异常吞咽可出现
- 最可能的原因是
- 以下不是智齿冠周炎常见原因的是
- 以下哪项不是不是正畸矫治力的来源
- Begg矫正技术的原理是
- 有关口腔正常菌群组成特点的描述,错误的是
- 上颌斜面导板矫治器的导板与平面呈
- 不锈钢正畸弓丝可以通过以下哪种方法使其变
- 恒牙正常咬合时下述关系何为正常
- 义齿基托蜡型的大小和伸展范围的设计应参照
- 用银汞合金充填中龋或深龋,需要垫底,是因
- 舌系带根部溃疡的原因是
- 下列哪项不符合矫治器的基本要求
- 下颌哪一部位不是下颌骨骨折的好发部位
- 深覆盖的早期矫治方法不包括
- 下列哪种合金一般不采用银作为焊料焊接